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國內單片機芯片產業誕生超分辨光刻機

更新時間: 2019-01-07
閱讀量:1521

  深圳單片機開發方案公司英銳恩為你帶來芯資訊—中國單片機芯片產業設備繞過了相關知識產權壁壘,國內首臺超分辨力最高紫外超分辨光刻裝備誕生了。中科院光電所研發出這一臺突破傳統的光刻機,對單片機芯片產業來說是一次嘗試性的邁進。

            

  此次通過驗收的表面等離子體超分辨光刻裝備,打破了傳統路線格局,形成了一條全新的納米光學光刻技術路線,具有完全自主知識產權,為超材料/超表面、第三代光學器件、廣義芯片等變革性領域的跨越式發展提供了制造工具。光刻分辨力達到22納米,結合多重曝光技術后,可用于制造10納米級別的芯片。

  光刻機在365納米光源波長下,單次曝光最高線寬分辨力達到22納米。項目在原理上突破分辨力衍射極限,建立了一條高分辨、大面積的納米光刻裝備研發新路線,繞過了國外相關知識產權壁壘。

  光刻機是制造芯片的核心裝備,采用類似照片沖印的技術,把一張巨大的電路設計圖縮印到小小的芯片上,光刻精度越高,芯片體積可以越小,性能也可以越高。但由于光波的衍射效應,光刻精度終將面臨極限。

            

  單片機芯片產業的生產過程中是需要不斷提高光刻精度的,這是全球的技術升級問題。深圳單片機開發方案公司英銳恩為中國取得這一突破萬分激動,同時也激勵著英銳恩不斷突破前進,做有價值的芯方案解決商。

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